本報記者 陳紅

    9月1日晚間，蘇州蘇大維格科技集團股份有限公司（以下簡稱“蘇大維格”）發布公告稱，公司擬以現金方式收購常州維普半導體設備有限公司（以下簡稱“常州維普”）不超過51%的股權，交易對價預計不超過5.1億元。若收購完成，蘇大維格將實現對常州維普的控股，此舉為其在半導體設備產業鏈布局再添關鍵一環。

    公告顯示，常州維普是江蘇省專精特新“小巨人”企業，主營產品為光掩模缺陷檢測設備（系收入主要構成）和晶圓缺陷檢測設備的研發、生產與銷售，兩類產品均屬半導體量檢測核心設備。作為國內極少數實現半導體光掩模缺陷檢測設備規模化量產的企業，常州維普核心技術、產品及算法均通過正向自研開發，擁有自主知識產權，且主要核心零部件已實現國產化與自主可控，其產品已成功進入國內頭部晶圓廠及國內外頭部掩膜版廠商的量產線，具備成熟的市場應用基礎。

    交易雙方約定，常州維普需在2025年至2027年期間累計實現扣除非經常性損益后的凈利潤不低于2.4億元（含）。以此為基礎，常州維普100%股權整體估值暫定為不超過10億元（含）。

    從行業背景來看，光掩模（Photomask）又稱掩模、（光刻）掩膜版、光罩等，是微電子制造過程中圖形轉移的核心母版，也是半導體、平板顯示等行業生產制造的關鍵材料。當前，國內光掩模缺陷檢測設備市場長期被海外企業主導，國產率不足3%，國產替代進程尚處于早期階段，市場空間廣闊。而蘇大維格在高端智能裝備領域聚焦激光直寫光刻機與納米壓印光刻機的研發、生產與銷售，其中激光直寫光刻機是光掩模制造的核心設備之一，國內半導體企業所用的同類設備主要依賴美國應用材料（AppliedMaterials）、瑞典邁康尼（Mycronic）等美歐企業。

    值得關注的是，激光直寫光刻機與掩模缺陷檢測設備在核心部件構成上高度相似，均由光學系統、核心算法、軟件系統、精密運動控制平臺、電氣電控系統五部分組成。其中，蘇大維格在光學系統、精密運動控制平臺領域積累深厚，常州維普則在核心算法、軟件系統、電氣電控系統方面具備技術優勢與量產經驗，雙方技術互補性顯著。收購完成后，蘇大維格有望通過技術整合增強蘇大維格在直寫光刻領域的研發實力，加快產品迭代速度，同時借助常州維普的現有客戶資源，大幅降低蘇大維格激光直寫光刻機的客戶開發成本與產品驗證周期，推動其在半導體掩膜制造領域的量產應用。

    福建華策品牌定位咨詢創始人詹軍豪對《證券日報》記者表示，半導體設備行業中，客戶資源與市場驗證是關鍵壁壘，尤其關鍵設備需長期測試驗證才能進入供應鏈。常州維普已深入下游客戶體系，蘇大維格收購后可借其合作基礎獲取定制化需求，通過組合方案深化合作，縮短驗證周期，還能借“生產-檢測”一體化供應提升客戶黏性，形成差異化競爭優勢。

    需要注意的是，本次簽署的《股權收購意向協議》僅為雙方初步意向約定，股權收購事宜仍處于籌劃階段，尚未完成相關審批程序與實施步驟，短期內不會對蘇大維格的生產經營及業績產生重大影響。

    同時，本次交易存在多重不確定性。一方面，常州維普承諾的業績目標受行業周期、市場競爭、技術迭代等因素影響，存在兌現風險；另一方面，常州維普核心技術團隊穩定性至關重要，核心股東與管理者的留任情況、技術人員是否流失，將影響技術延續性與業績表現。

    眾和昆侖（北京）資產管理有限公司董事長柏文喜對《證券日報》記者表示，國內半導體設備企業多聚焦單一領域，抗風險與協同能力弱。蘇大維格收購常州維普，探索“設備集群化”模式，可通過技術協同降本提效，契合晶圓廠“一站式解決方案”需求，符合海外頭部廠商發展路徑。隨著產業鏈自主可控需求提升，設備企業整合將成趨勢，此次收購若落地，或為行業提供整合樣本，推動企業從“單點競爭”轉向“系統競爭”。

    柏文喜進一步補充，投資者需關注三項關鍵進展評估交易價值，一是盡職調查中標的核心專利完整性、客戶合同穩定性及經營合規性；二是正式協議中業績補償機制的考核方式、補償手段與責任主體；三是關聯方是否參與交易及定價公允性，避免利益輸送風險。

（編輯 賀俊）