本報訊 （記者劉曉一）深圳市龍圖光罩股份有限公司（以下簡稱“龍圖光罩”）將于8月6日迎來科創板上市一周年。作為國內稀缺的獨立第三方半導體掩模版廠商，公司在上市之際推進的核心募投項目——珠海高端半導體芯片掩模版制造基地，現已取得階段性成果，彰顯了其在半導體關鍵材料領域的突破實力。

    龍圖光罩相關人士向《證券日報》記者介紹，2025年上半年，公司珠海工廠現已順利投產。其90nm節點產品已實現從研發到量產的跨越，65nm產品也已進入送樣驗證階段。經過多年發展，公司半導體掩模版工藝節點從1μm已提升至65nm，不僅填補了國內相關領域的產能缺口，更以技術創新為我國特色工藝半導體產業筑牢了發展根基。

    政策東風引路

    珠海工廠肩負技術攻堅使命

    半導體掩模版被譽為芯片制造的“母版”，其精度與制程能力直接決定芯片的最小線寬和性能上限，是半導體產業鏈中不可或缺的關鍵環節。行業數據顯示，2024年全球半導體市場規模已突破6000億美元，同比增長近20%。在這一輪產業擴張中，中國半導體產業鏈的自主可控需求尤為迫切。

    國家密集出臺政策支持半導體掩模版產業發展。《“十四五”國家信息化規劃》明確提出“加快集成電路關鍵技術攻關”；《新時期促進集成電路產業和軟件產業高質量發展的若干政策》則從財稅、研發等多維度給予支持，為行業技術攻堅提供了政策保障。

    龍圖光罩成立于2010年，是擁有自主知識產權的獨立第三方半導體掩模版廠商。公司產品廣泛應用于功率半導體、MEMS傳感器、IC封裝、模擬IC等特色工藝半導體領域，終端應用涵蓋新能源、光伏發電、汽車電子等場景。

    2024年8月份，龍圖光罩在上交所科創板上市。公司將上市募集的資金重點投向珠海工廠，即高端半導體芯片掩模版制造基地和高端半導體芯片掩模版研發中心兩個項目，全力推進高端掩模版技術突破。

    往前回顧，2022年8月份，龍圖光罩在珠海高新區設立子公司——珠海市龍圖光罩科技有限公司（以下簡稱“珠海龍圖”），并啟動建設上述兩個募投的高端半導體芯片掩模版項目。珠海龍圖規劃的廠區占地面積約2萬平方米，計劃一期生產65nm至130nm工藝節點的芯片掩模版，可滿足芯片設計公司及晶圓廠對該制程范圍內的光罩產品需求。

    2025年上半年，龍圖光罩珠海工廠已順利投產。目前，公司第三代PSM產品的工藝調試與樣品試制已順利完成，KrF-PSM和ArF-PSM產品陸續送抵部分客戶進行驗證；90nm節點產品成功實現從研發到量產的跨越，成為國內少數能穩定供應該制程掩模版的企業；65nm產品也已進入送樣驗證階段，進展符合預期。

    這一系列成果的取得，不僅讓珠海工廠成為公司突破高端制程的“主陣地”，更有助于我國打破在中高端掩模版領域長期以來的技術壁壘，為產業鏈上下游協同發展提供了關鍵支撐。

    技術創新驅動

    勾勒高端制程新圖景

    據了解，掩模版制造是一門融合精密光學、材料科學與軟件工程的“微觀雕刻藝術”，90nm以下制程對精度控制、缺陷檢測的要求極為苛刻，任何微小誤差都可能導致下游芯片良率大幅下降。龍圖光罩憑借多年技術積累，構建起覆蓋全生產流程的核心技術體系，為珠海工廠的高端化突破提供了“硬支撐”。

    公司2024年年報顯示，公司在高精度半導體掩模版領域不斷進行設備引進與技術攻關，針對半導體掩模版的工藝特點，形成了多項自主研發的核心技術，包括圖形補償（OPC）技術、精準對位標記技術、光刻制程管控技術等，涵蓋CAM、光刻、檢測三大環節。

    截至2024年底，公司已累計獲得25項發明專利和36項軟件著作權，當年研發投入達2305.07萬元，同比增長14.25%，占營業收入比例達9.35%。

    站在上市一周年的新起點，龍圖光罩將繼續以珠海工廠為支點，向高端半導體掩模版領域不斷突破，實現“技術跟跑”向“并跑”的跨越，為半導體產業鏈的自主可控注入源源不斷的動力，書寫中國半導體材料產業崛起的新篇章。

（編輯 郭之宸）